发明名称 带有聚焦补偿功能的电子束快速成型机电子枪系统
摘要 本实用新型公开一种带有聚焦补偿功能的电子束快速成型机电子枪系统,其不仅采用了偏扫绕组来产生垂直于电子束飞行参考方向的磁场,而且还采用了聚焦补偿绕组来产生平行于电子束飞行参考方向的磁场。偏扫装置三绕组的轴线相互垂直,三绕组间不存在互感效应。聚焦补偿绕组的驱动电源采用频率一阶补偿方式,适当选择聚焦补偿绕组的驱动电源的控制电路参数,使得聚焦补偿绕组励磁电流的频率补偿基本抵消铁磁损耗电流分量的影响,从而保证静态和动态的电子束焦点补偿效果的一致性。
申请公布号 CN205723437U 申请公布日期 2016.11.23
申请号 CN201620294863.9 申请日期 2016.04.07
申请人 桂林狮达机电技术工程有限公司 发明人 韦寿祺;朱国坤;黄小东;张建飞;谢桂红;覃胤鸿;黄兴泉
分类号 H01J37/06(2006.01)I;H01J37/065(2006.01)I 主分类号 H01J37/06(2006.01)I
代理机构 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 代理人 陈跃琳
主权项 带有聚焦补偿功能的电子束快速成型机电子枪系统,由中央控制单元(1)、驱动电源(2)、电子束发生装置(3)、主聚焦装置(4)和偏扫装置(5)组成;上述偏扫装置(5)包括铁磁框架(5.4)和偏扫绕组(5.2);该铁磁框架(5.4)设有内柱,其内柱的轴线中空处形成电子束(6)飞行通道;该偏扫绕组(5.2)由X轴绕组和Y轴绕组组成;X轴绕组和Y轴绕组上下平行绕制在铁磁框架(5.4)的内柱内侧,且X轴绕组和Y轴绕组的轴线正交;X轴绕组与X轴绕组的驱动电源(2)相连,Y轴绕组与Y轴绕组的驱动电源(2)相连,通电后X轴绕组和Y轴绕组产生垂直于电子束(6)飞行参考方向的合成磁场;其特征在于:上述偏扫装置(5)还进一步包括聚焦补偿绕组(5.1);该聚焦补偿绕组(5.1)螺旋绕制在铁磁框架(5.4)的内柱外侧,聚焦补偿绕组(5.1)、X轴绕组与Y轴绕组三者的轴线两两正交;铁磁框架(5.4)的内柱上开设有一内外贯通的磁隙(5.3);聚焦补偿绕组(5.1)与聚焦补偿绕组的驱动电源(2)相连,通电后聚焦补偿绕组(5.1)产生的磁场通过磁隙(5.3)扩散至电子束(6)通道,形成平行于电子束(6)飞行参考方向的磁场。
地址 541004 广西壮族自治区桂林市国家高新区英才科技园A24号