| 发明名称 | X射线成像装置和用于校准X射线成像装置的设备和方法 | ||
| 摘要 | 描述了一种用于校准X射线成像装置的校准设备(140)，所述设备(140)包括：接收单元(200)，其用于接收由所述X射线成像装置(100)的探测单元(108)在参考条件下获取的图像；分析单元(201)，其用于分析所获取的图像以得到增益校正信息；以及校准单元(202)，其用于基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准所述X射线成像装置(100)。 | ||
| 申请公布号 | CN101460098A | 申请公布日期 | 2009.06.17 |
| 申请号 | CN200780020283.4 | 申请日期 | 2007.05.22 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | H-I·马克;C·库尔策 |
| 分类号 | A61B6/00(2006.01)I;G01N23/00(2006.01)I | 主分类号 | A61B6/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王 英 |
| 主权项 | 1、一种用于校准X射线成像装置(100)的校准设备(140)，所述校准设备(140)包括：接收单元(200)，其用于接收由所述X射线成像装置(100)的探测单元(108)在参考条件下获取的图像；分析单元(201)，其用于分析在所述参考条件下获取的所述图像以得到增益校正信息；校准单元(202)，其用于基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准所述X射线成像装置(100)。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||