| 摘要 |
본 발명의 과제는 설정된 에칭 시간에 에칭되는 막의 종류나 수가 다르게 됨으로써, CD 정밀도가 저하되어 버린다고 하는 문제점을 해결하고, 보다 CD 정밀도가 높은 전사 패턴의 형성 방법을 포함하는 포토마스크의 제조 방법을 제공하는 것이다. 투명 기판 상에, 제1 반투광막, 제2 반투광막 및 차광막이 각각 패터닝되어 형성된 전사용 패턴을 구비하는 포토마스크의 제조 방법으로서, 소정의, 레지스트를 구비한 포토마스크 블랭크 준비 공정과, 제1 에칭 공정과, 제2 레지스트막 형성 공정과, 제2 에칭 공정과, 제2 반투광막 성막 공정과, 제3 레지스트막 형성 공정과, 제3 에칭 공정을 갖고, 상기 제1 에칭 공정에서는, 실질적으로 상기 차광막만을 에칭하고, 상기 제2 에칭 공정에서는, 실질적으로 상기 제1 반투광막만을 에칭하고, 상기 제3 에칭 공정에서는, 실질적으로 상기 제2 반투광막만을 에칭하는 것을 특징으로 하는, 포토마스크의 제조 방법이다. |
