发明名称 CLEANING NOZZLE AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS FOR SUBSTRATE HAVING THE CLEANING NOZZLE
摘要 연마공정 중에 기판의 젖음 상태를 유지할 수 있도록 하는 세정노즐을 구비하는 세정노즐 및 기판 연마장치에 관한 것이다. 기판의 화학 기계적 연마공정이 수행되는 기판 연마장치에서 기판의 세정을 위한 세정 유닛에 구비되는 세정노즐은, 기판에 기체와 액체가 혼합된 세정제를 제공하는 토출구가 형성된 노즐 하우징, 상기 노즐 하우징 내부에 구비되어서 상기 토출구 방향으로 직선 형태로 상기 세정제를 제공하는 제1 분사부 및 상기 노즐 하우징 내부에서 상기 제1 분사부와 이격되어 구비되고 상기 제1 분사부에서 상기 세정제를 토출하는 방향에 대해서 경사지게 상기 세정제를 제공하여 와류를 발생시키는 제2 분사부를 포함하여 구성된다.
申请公布号 KR20160142001(A) 申请公布日期 2016.12.12
申请号 KR20150077761 申请日期 2015.06.02
申请人 주식회사 케이씨텍 发明人 최광락;안준호
分类号 H01L21/304;H01L21/02;H01L21/67 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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