| 摘要 |
십자선으로부터 광축을 따라, 웨이퍼에 십자선 패턴으로 초점을 맞추고 이미지화하기 위한 리소그래피 투사 대물렌즈(30)는 양의 굴절력을 갖는 제 1 렌즈그룹(G31); 양의 굴절력을 갖는 제 2 렌즈그룹(G32); 양의 굴절력을 갖는 제 3 렌즈그룹(G33); 및 양의 굴절력을 갖는 제 4 렌즈그룹(G34)을 포함한다. 이들 4개의 렌즈그룹들은 100mm보다 작지 않은 부분 시야각을 갖는 2X 배율 설계를 형성한다; I-라인±5㎚의 파장 대역은 충분한 노출 광강도를 보장할 수 있다. 더욱이, 본 발명은 상대적으로 간단한 구조로 대형 필드에서 요구되는 밀리미터 수준의 해상도뿐만 아니라 왜곡보정, 필드곡률, 비점수차 및 색수차를 또한 달성할 수 있다. |
