| 发明名称 |
リソグラフィ方法 |
| 摘要 |
【課題】リソグラフィ装置が受光する自由電子レーザ発生放射パワーを制御する。【解決手段】リソグラフィ基板にパターンを付与する方法であって、自由電子レーザを用いてＥＵＶ放射を発生させることと、ＥＵＶ放射をリソグラフィ基板上に投影するリソグラフィ装置にＥＵＶ放射を送出することと、を含み、方法が、フィードバックベースの制御ループを用い、自由電子レーザを監視し、それに応じて自由電子レーザの動作を調整することによって、リソグラフィ基板に送出されるＥＵＶ放射のパワーの変動を低減させることを更に含む。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2016528528(A) |
申请公布日期 |
2016.09.15 |
| 申请号 |
JP20160520441 |
申请日期 |
2014.06.17 |
| 申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． |
发明人 |
ニキペロフ，アンドレイ;フラインス，オラフ;デ フリース，ゴッセ;ループストラ，エリック;バニエ，バディム;デ ヤゲル，ピーター;ドンケル，リルフォ;ニーンフイス，ハン−クワン;クリュイツィンガ，ボルヘルト;エンゲレン，ウーター;ルイテン，オッゲル;アッケルマンス，ヨハネス;グリミンク，レオナルドゥス;リトヴィネンコ，ウラジミール |
| 分类号 |
G03F7/20;H01S3/00;H01S3/30;H05G2/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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