发明名称 Plasma Generation Apparatus
摘要 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 전자기파 차폐 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 반응 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 상부면에 배치되고 상기 챔버를 밀폐시키는 유전체 판; 상기 유전체 판의 상부에 배치되는 플라즈마 발생원; 및 상기 챔버의 상부에서 상기 플라즈마 발생원을 감싸도록 배치되는 안테나 차폐실을 포함한다. 상기 안테나 차폐실은 하나 이상의 안테나 차폐실 측벽을 포함하고, 상기 안테나 차폐실은 상기 하나 이상의 안테나 차폐실 측벽이 만나는 코너에서 곡률을 가지도록 형성된다.
申请公布号 KR20160121263(A) 申请公布日期 2016.10.19
申请号 KR20150051034 申请日期 2015.04.10
申请人 JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. 发明人 BAE, JIN MO;KIM, DO HYUNG;KIM, SANG BO;KIM, YOUNG HUUN;CHOI, SEONG HYUK
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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