(NH<SUB>4</SUB><SUP>+</SUP>)<SUB>x</SUB>MoS<SUB>2</SUB>插层化合物及其制备方法

摘要

本发明公开了一种(NH₄⁺)_xMoS₂插层化合物，式中x值为0.2～3.0。其制备方法是首先利用正丁基锂对二硫化钼进行插层，得到锂插层二硫化钼，然后采用水剥层制备了二硫化钼悬浮液，并在氯化铵溶液中插层制备了(NH₄⁺)_xMoS₂插层化合物，本产品可作为一种良好的固体润滑材料，也可与碱溶液共热得到单层二硫化钼。本发明解决了单层二硫化钼的储存问题，得到了稳定的(NH₄⁺)_xMoS₂插层化合物，本发明的插层化合物是一种灰黑色粉末状固体，在机械、电子、航空航天、化工、材料等固体润滑领域有着重要的应用价值。

主权项

1、一种(NH4 +)xMoS2插层化合物，其特征在于：所述化合物中x的值为：0.2～3.0。