发明名称 |
放射源の制御方法およびこの放射源を備えたリソグラフィ装置 |
摘要 |
【課題】従来技術の問題点の1つ以上を除去または軽減するような態様で放射源を動作させる。【解決手段】放射源の変数に適用されるべき周期的な変調(401)を選択する方法である。放射源は、基板上への投影用に放射を送り、基板と放射との間にスキャン速度での相対移動がある。本方法は、一組のシステムパラメータおよび基板上のある位置について、放射源の変数に適用されている変調による、同位置に送られるエネルギドーズ(403)への寄与の指標である数量を計算することであって、エネルギドーズへの寄与は、放射のプロファイル(402)と、放射源により送られる放射の照射量への寄与と、の畳み込みとして計算されることと、一組のシステムパラメータおよび基板上の位置についての数量が特定の基準を満たすような変調周波数を選択することと、を含む。【選択図】図4a |
申请公布号 |
JP2016522443(A) |
申请公布日期 |
2016.07.28 |
申请号 |
JP20160514314 |
申请日期 |
2014.04.16 |
申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
发明人 |
オプト ルート,ウィルヘルムス;ボマー,アドリアヌス;デ ヨング,ロベルト;エバーツ,フランク;ゴッドフリード,ヘルマン;シュトルク,ローランド;ヴァン デル ベーン,ポール |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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