Verfahren zur Herstellung einer Polierschicht für ein chemisch-mechanisches Polierkissen

摘要

Es wird ein Verfahren zur Bildung einer Polierschicht für ein chemisch-mechanisches Polierkissen bereitgestellt, umfassend: Bereitstellen eines Formwerkzeugs, das eine Basis mit einem darin ausgebildeten Negativ eines Rillenmusters aufweist, Bereitstellen einer flüssigen Komponente der Poly-Seite (P), Bereitstellen einer flüssigen Komponente der Iso-Seite (I), Bereitstellen eines mit Druck beaufschlagten Gases, Bereitstellen einer axialen Mischvorrichtung, Einbringen der flüssigen Komponente der Poly-Seite (P), der flüssigen Komponente der Iso-Seite (I) und des mit Druck beaufschlagten Gases in die axiale Mischvorrichtung zur Bildung eines Gemischs, Austragen des Gemischs aus der axialen Mischvorrichtung mit einer Geschwindigkeit von 5 bis 1000 m/s in die Richtung der Basis, Erstarrenlassen des Gemischs zu einer Masse, Trennen der Polierschicht für ein chemisch-mechanisches Polierkissen von der Masse, wobei die Polierschicht für ein chemisch-mechanisches Polierkissen eine Polieroberfläche aufweist, wobei das Rillenmuster in der Polieroberfläche ausgebildet ist und wobei die Polieroberfläche zum Polieren eines Substrats angepasst ist.