| 摘要 |
리소그래피 장치와 함께 사용되고 기판을 처리하도록 구성되는 시스템으로서, 가스원에 연결되도록 구성되는 시스템에 있어서, 상기 기판이 통과하는 공간; 및 상기 공간 밖에서 유래하는 열 부하로부터 상기 공간을 열적으로 단열시키기 위한 열적 실드를 포함하고, 상기 열적 실드는, 사이에 갭이 있는 제 1 벽 및 제 2 벽으로서, 상기 제 1 벽은 상기 공간과 상기 제 2 벽 사이에 위치되는, 제 1 벽 및 제 2 벽; 상기 가스원으로부터의 가스의 흐름이 상기 공간 외부로부터 상기 갭에 진입하게 하도록 구성되는 적어도 하나의 인입구; 및 상기 가스의 흐름이 상기 갭을 벗어나 상기 공간에 이르게 하도록 구성되는 적어도 하나의 인출구를 포함하며, 상기 시스템은 상기 가스원으로부터의 상기 가스의 흐름이 상기 적어도 하나의 인입구를 통해 상기 갭에 진입하고, 상기 갭을 통과하여 상기 적어도 하나의 인출구를 통해 상기 갭으로부터 상기 공간 외부로 흐르도록 지향시킴으로써, 상기 공간 외부에서 유래하는 상기 열 부하에 기인한 상기 공간 내에서의 열적 요동을 감소시키도록 구성되는, 기판 처리 시스템. |
