发明名称 |
利用衰减的相移掩模图案化晶片上的光刻胶的方法 |
摘要 |
一种衰减的相移掩模(10或20)包括基板(12或22)和覆盖在基板上的衰减叠层(11或21)。衰减叠层包括覆盖在基板上的铬层或钌层(14或24)、覆盖在铬层或钌层上的氧化硅钽层(16或26)和覆盖在氧化硅钽层上的氮化硅钽层(18或28)。衰减叠层还可包括在基板(22)和铬或钌层(24)之间的层(30)。在一个实施例中,该层是部分基板。使用衰减叠层来图案化半导体晶片上的光刻胶(50)。在一个实施例中,在曝光波长处,与衰减叠层相邻的部分基板具有大于90%的透射率,且衰减叠层具有5%至20%的透射率。在一个实施例中,基板和衰减叠层之间在检查波长处的检查对比度大于75%。 |
申请公布号 |
CN100470381C |
申请公布日期 |
2009.03.18 |
申请号 |
CN200480005996.X |
申请日期 |
2004.02.13 |
申请人 |
飞思卡尔半导体公司 |
发明人 |
詹姆斯·R·沃森;帕维特·曼加特 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I;G03G16/00(2006.01)I;G03C5/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
李 涛;钟 强 |
主权项 |
1. 一种衰减的相移透射掩模,包括:基板;和覆盖在基板上的衰减叠层,其中衰减叠层包括覆盖在基板上的第一层、覆盖在第一层上的氧化硅钽层和覆盖在氧化硅钽层上的氮化硅钽层,且其中第一层是铬层或钌层中之一。 |
地址 |
美国得克萨斯 |