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发明名称 STRAINED SILICON WAFER AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME
摘要
申请公布号 KR20050078229(A) 申请公布日期 2005.08.04
申请号 KR20050007938 申请日期 2005.01.28
申请人 TOSHIBA CERAMICS CO., LTD. 发明人 KURITA HISATSUGU;IGARASHI MASATO;SENDA TAKESHI;IZUNOME KOJI
分类号 C30B25/18;C30B29/06;C30B29/52;(IPC1-7):H01L21/20 主分类号 C30B25/18
代理机构 代理人
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