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经营范围
发明名称
Method of making intermetal dielectric in semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100505408(B1)
申请公布日期
2005.08.04
申请号
KR19990031410
申请日期
1999.07.30
申请人
发明人
分类号
H01L21/3205;(IPC1-7):H01L21/320
主分类号
H01L21/3205
代理机构
代理人
主权项
地址
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