发明名称 | 曝光装置和制造设备的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及曝光装置和制造设备的方法。曝光装置将基板的周边部分曝光给光,并且所述装置包括被配置成用光照射基板的光学系统,被配置成保持基板并且在如下方向上移动的台,该方向使基板定位在垂直于光学系统的光轴的方向上,以及被配置成使台被移动的控制器。该控制器基于关于光学系统和周边部分之间的在平行于光轴的方向上的距离的信息和光学系统的远心度来使台被移动,以使得基板的预定部分被来自光学系统的光照射。 | ||
申请公布号 | CN105807576A | 申请公布日期 | 2016.07.27 |
申请号 | CN201610019083.8 | 申请日期 | 2016.01.12 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 斋藤顺敬 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 宋岩 |
主权项 | 一种将基板的周边部分曝光给光的曝光装置,其特征在于,所述装置包括:光学系统,被配置成用光照射基板;台,被配置成保持基板并且在如下方向上移动,该方向使基板定位在垂直于光学系统的光轴的方向上;以及控制器,被配置成使台被移动,其中,控制器被配置成基于关于光学系统和周边部分之间的在平行于光轴的方向上的距离的信息和光学系统的远心度来使台被移动,以使得基板的预定部分被来自光学系统的光照射。 | ||
地址 | 日本东京 |