发明名称 |
具有降低的气泡含量的石英坩锅及其制造方法 |
摘要 |
公开一种具有降低的/控制的气泡含量的石英坩锅,其含有外层和用元素及化合物掺杂的内层,该元素及化合物:a)在或接近石英的熔化温度下与氧气和氮气反应;且b)形成在高于1400℃温度下热稳定的且在SiO<SUB>2</SUB>环境中化学稳定的化合物。还公开一种制造具有控制的气泡含量的坩锅的方法,该方法包括形成具有用材料掺杂的内层的坩锅的步骤,该材料与气泡内的残余气体如氮气和氧气反应并因此消耗气泡内的气体且在熔化过程中将其排空。 |
申请公布号 |
CN1890407A |
申请公布日期 |
2007.01.03 |
申请号 |
CN200480036216.8 |
申请日期 |
2004.12.03 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
理查德·L·汉森 |
分类号 |
C30B15/10(2006.01);C03B19/09(2006.01) |
主分类号 |
C30B15/10(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
宋莉;贾静环 |
主权项 |
1.一种用于拉硅单晶的石英玻璃坩锅,所述的坩锅含有用金属粉末掺杂的石英玻璃的内表面部分,该金属粉末:a)与氧气和氮气反应形成金属氧化物或金属氮化物;且b)形成在高于1400℃温度下热稳定的且在SiO2环境中化学稳定的化合物。 |
地址 |
美国纽约州 |