基于架空金属线桥的微机电系统磁执行器的制作方法

摘要

本发明涉及微机电系统微型执行器技术领域，公开了一种基于架空金属线桥的微机电系统磁执行器的制作方法，包括：A.在硅晶片上下表面淀积氮化硅薄膜；B.保护正面，背面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜窗口；C.正面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜执行器图形；D.正面光刻，打底胶，电子束蒸发Cr/Au，剥离形成金属线圈及电极；E.正面光刻，打底胶，电镀金，形成架空金属线桥桥柱；F.正面光刻，打底胶，电子束蒸发Cr/Au，剥离形成架空金属线桥；G.腐蚀背面体硅，释放执行器。利用本发明，简化了制作工艺，克服了用于流体控制的微执行器驱动力小、存在应力、热效应等问题。

主权项

1、一种基于架空金属线桥的微机电系统磁执行器的制作方法，其特征在于，该方法包括：A、在硅晶片上下表面淀积氮化硅薄膜；B、保护正面，背面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜窗口；C、正面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜执行器图形；D、正面光刻，打底胶，电子束蒸发Cr/Au，剥离形成金属线圈及电极；E、正面光刻，打底胶，电镀金，形成架空金属线桥桥柱；F、正面光刻，打底胶，电子束蒸发Cr/Au，剥离形成架空金属线桥；G、腐蚀背面体硅，释放执行器。