| 发明名称 | 真空吸附式工作平台结构 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种真空吸附式工作平台结构，包括：一下本体，该下本体内设有多个流道，该下本体顶面设置有多个沟槽，所述沟槽沿纵向及横向延伸，所述流道与所述沟槽相通；以及一上本体，该上本体与该下本体锁固结合，该上本体设置有多个吸气孔，所述吸气孔贯穿该上本体顶面及底面，所述吸气孔与所述沟槽相对应。本实用新型的吸气孔吸力平均，能提供平均的真空吸力，可达到较佳的吸附效果。该上本体及该下本体之间以阵列方式间隔设置的锁固件锁固结合，其结合较牢固，且锁固力较平均，使平台具有较佳的平面度，且密封性较佳，不会发生漏气的情况。 | ||
| 申请公布号 | CN201015850Y | 申请公布日期 | 2008.02.06 |
| 申请号 | CN200720005790.8 | 申请日期 | 2007.02.16 |
| 申请人 | 沈永才 | 发明人 | 沈永才;沈彦平 |
| 分类号 | B25B11/00(2006.01);B25H1/00(2006.01) | 主分类号 | B25B11/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 梁挥;祁建国 |
| 主权项 | 1.一种真空吸附式工作平台结构，其特征在于，包括：一下本体，该下本体内设有多个流道，该下本体顶面设置有多个沟槽，所述沟槽沿纵向及横向延伸，所述流道与所述沟槽相通；以及一上本体，该上本体与该下本体锁固结合，该上本体设置有多个吸气孔，所述吸气孔贯穿该上本体顶面及底面，所述吸气孔与所述沟槽相对应。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||