| 发明名称 | 含碘酸盐的化学机械抛光组合物及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于平坦化或抛光基板的组合物及方法。该组合物包含研磨剂、碘酸根离子、含氮化合物、及包含水的液体载体，其中，该含氮化合物选自含氮C<sub>4-20</sub>杂环及C<sub>1-20</sub>烷基胺。 | ||
| 申请公布号 | CN101389723A | 申请公布日期 | 2009.03.18 |
| 申请号 | CN200780006685.9 | 申请日期 | 2007.03.06 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 李守田;菲利普·卡特;张剑 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋 莉 |
| 主权项 | 1. 一种用于抛光基板的化学机械抛光组合物，其包含：(a)0. 05重量％至10重量％的研磨剂，(b)0. 05重量％至4重量％的碘酸根离子，(c)0. 01重量％至1重量％的选自含氮C4-20杂环及C1-20烷基胺的含氮化合物，及(d)包含水的液体载体，其中该抛光组合物的pH值为1至5。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||