CYCLIC COMPOUND PROCESS FOR PREPARATION THEREOF RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN

摘要

하기 식 (1)로 나타내는 환상 화합물(식 중, L, R, R' 및 m은 명세서 중에서 정의한 바와 같다).식 (1)로 나타내는 환상 화합물은 안전 용매에 대한 용해성이 높고, 고감도이며, 또한 양호한 레지스트 패턴 형상을 부여하므로, 감방사선성 조성물의 성분으로서 유용하다.