| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum zumindest teilweisen Aushärten eines auf ein Substrat (14) aufgebrachten Fotolacks (12), wobei die folgenden Schritte ausgeführt werden: Das mit dem Fotolack (12) beschichtete Substrat (14) wird auf einer Unterlage (16) angeordnet. Der Fotolack (12) wird für eine erste vorbestimmte Zeitdauer einer zum Aushärten des Fotolacks (12) geeigneten Temperatur ausgesetzt. Nach Ablauf der ersten vorbestimmten Zeitdauer wird das Substrat (14) von der Unterlage abgehoben, gedreht, wieder auf der Unterlage (16) abgesetzt und für eine zweite vorbestimmte Zeitdauer einer zum Aushärten des Fotolacks (12) geeigneten Temperatur ausgesetzt. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zum zumindest teilweisen Aushärten eines auf einem Substrat (14) aufgebrachten Fotolacks (12), mit einer Kammer (20), einer Unterlage (16), die in der Kammer (20) angeordnet ist und auf der das Substrat (14) angeordnet werden kann, und einer Vorrichtung (22) zum Drehen des Substrats (14) zwischen einer ersten und einer zweiten Phase des Aushärtens des Fotolacks (12). |
