发明名称 非布司他新型晶体及其制备方法
摘要 本发明涉及晶体晶型的控制技术,更具体而言,涉及一种非布司他的新型晶体(定义为晶型K)及其制备方法。该晶型晶体的X射线粉末衍射图在反射角2θ在为5.64±0.2,7.80±0.2,11.38±0.2,11.70±0.2,12.54±0.2,12.74±0.2,17.18±0.2和26.12±0.2°处具有特征峰。其制备方法包括:非布司他在1,4-二氧六环中加热溶解后,或者非布司他在1,4-二氧六环与选自正己烷、石油醚和环己烷中的一种溶剂的混合溶剂中加热溶解后,冷却结晶,得到非布司他晶型K晶体。本发明的晶型K晶体在正常存储条件下具有很好的稳定性,且其制备过程中所用的溶剂安全性高,非布司他在1,4-二氧六环构成的溶剂系统中易生成结晶,所得结晶纯度高,更有利于产品开发。
申请公布号 CN101386605A 申请公布日期 2009.03.18
申请号 CN200810201652.6 申请日期 2008.10.23
申请人 中国科学院上海药物研究所;江苏正大天晴药业股份有限公司 发明人 邓斐;张金生
分类号 C07D277/56(2006.01)I;A61P19/06(2006.01)I 主分类号 C07D277/56(2006.01)I
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人 朱 梅;黄丽娟
主权项 1、非布司它晶型K晶体,其特征是:在如下测试条件下:X射线管:Cu-Kα靶X射线波长:<img file="A200810201652C00021.GIF" wi="224" he="50" />管压:40KV管电流:60mA扫描角度:2.5°~50°   扫描速度:4°/min该晶型晶体的X射线粉末衍射图在反射角2θ在为5.64±0.2,7.80±0.2,11.38±0.2,11.70±0.2,12.54±0.2,12.74±0.2,17.18±0.2和26.12±0.2°处具有特征峰。
地址 200031上海市太原路294号
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