发明名称 . A semiconductor device and method of manufacturing the semiconductor device
摘要 반도체 소자는 기판 상에 배치되고, 개구부가 구비되고 다공성을 갖는 저유전 절연 물질을 포함하는 층간 절연막이 구비된다. 상기 개구부의 내측벽 상에 데미지 큐어링막이 구비된다. 상기 데미지 큐어링막 상에 베리어막 패턴이 구비된다. 또한, 상기 베리어막 패턴 상에, 상기 개구부 내부를 채우는 구리 패턴 및 상기 구리 패턴의 표면을 덮는 구리-망간 캡핑 패턴을 포함하는 구리 구조물이 구비된다. 상기 반도체 소자의 배선 구조물은 금속의 확산이 방지되어 저저항을 가질 수 있다.
申请公布号 KR20160116618(A) 申请公布日期 2016.10.10
申请号 KR20150044602 申请日期 2015.03.30
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 YIM, TAE JIN;AHN SANG HOON;OSZINDA THOMAS;BAEK, JONG MIN;KIM, BYUNG HEE;LEE, NAE IN;JUN, KEE YOUNG
分类号 H01L21/3205;H01L21/768 主分类号 H01L21/3205
代理机构 代理人
主权项
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