| 摘要 |
플라즈마 챔버를 사용하여 기판을 프로세싱하기 위한 방법이 제공된다. 방법은 플라즈마 챔버의 페데스탈 상에 기판을 제공하는 단계를 포함하고, 기판은 다공성 구조체를 갖는 재료 층 및 다공성 구조체의 하나 이상의 개방된 구멍들을 노출시키는 재료 층 내에 형성된 적어도 하나의 피처를 갖는다. 방법은 플라즈마 챔버의 압력이 박막을 증착하기 위해 사용된 평균 프로세스 압력보다 보다 높은 제 1 압력으로 증가되도록 플라즈마 챔버 내로 불활성 가스를 도입하는 단계로서, 제 1 압력으로 증가시키는 단계는 불활성 가스의 적어도 일부로 하여금 재료 층의 다공성 구조체의 하나 이상의 개방된 구멍들 내로 이동하게 하는, 불활성 가스를 도입하는 단계, 및 플라즈마 챔버의 압력을 박막을 증착하기 위해 사용된 평균 프로세스 압력보다 보다 낮은 제 2 압력으로 감소시키는 단계로서, 제 2 압력으로 감소시키는 단계는 재료 층 내의 불활성 가스의 적어도 일부로 하여금 하나 이상의 개방된 구멍들로부터 배기되게 하는, 플라즈마 챔버의 압력을 제 2 압력으로 감소시키는 단계를 더 포함한다. 방법은 이어서 불활성 가스가 배기되는 동안 하나 이상의 개방된 구멍들을 시일링하도록 재료 층의 하나 이상의 개방된 구멍들로부터 불활성 가스가 배기되는 동안 동시에 재료 층 내에 형성된 피처 및 재료 층 위에 박막을 증착하는 단계를 포함한다. |
