| 发明名称 | 二氧化硅系被膜形成用涂布液 | ||
| 摘要 | 一种二氧化硅系被膜形成用涂布液，含有(A)使烷基三烷氧基硅烷发生水解反应而得到的反应产物或者(A’)使由烷基三烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷组成的硅烷化合物发生水解反应而得到的反应产物、和(B)选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化物的一种以上。本发明提供了可以形成介电常数低而且不易发生由剥离液造成的膜减少和介电常数的上升的二氧化硅系被膜的二氧化硅系被膜形成用涂布液。 | ||
| 申请公布号 | CN100382252C | 申请公布日期 | 2008.04.16 |
| 申请号 | CN200510103745.1 | 申请日期 | 2005.09.09 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 饭田启之;佐藤功;高滨昌 |
| 分类号 | H01L21/312(2006.01);C08L83/04(2006.01) | 主分类号 | H01L21/312(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种二氧化硅系被膜形成用涂布液，其特征在于，含有(A)使烷基三烷氧基硅烷发生水解反应而得到的反应产物、和(B)选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化物的一种以上、以及(C)氢氧化四烷基铵。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||