| 摘要 |
본 발명의 실시예들은 일반적으로, 집적 회로 내에 저-k 유전체 다공성 실리콘 옥시카본 층을 형성하기 위한 방법 및 장치를 제공한다. 일 실시예에서, 포로겐 및 벌크 층 함유 실리콘 옥시카본 층을 증착하고, 벌크 층을 동시에 가교시키지 않으면서, 형성된 층으로부터 포로겐들을 선택적으로 제거하고, 그 후에, 벌크 층 재료를 가교시키기 위한 방법이 제공된다. 다른 실시예들에서, 다수의 실리콘 옥시카본 하위층들을 증착하고, 하위-층의 벌크 재료를 동시에 가교시키지 않으면서, 각각의 하위-층으로부터 포로겐들을 선택적으로 제거하고, 별개로 하위-층들을 가교시키기 위한 방법들이 제공된다. |
