| 发明名称 | 清洁半导体基片的方法和装置 | ||
| 摘要 | 提供用于清洁基片的方法。该方法开始于将活化溶液应用于该基片表面。该活化溶液和该基片表面与固态清洁表面的表面接触。该活化溶液被吸收进该固态清洁元件一部分，然后该晶元基片或该固态清洁表面相对彼此移动以清洁该基片表面。还提供一种用遭受塑性变形的固态清洁元件清洁该基片表面的方法。还提供相应的清洁设备。 | ||
| 申请公布号 | CN101389414A | 申请公布日期 | 2009.03.18 |
| 申请号 | CN200680053425.2 | 申请日期 | 2006.12.26 |
| 申请人 | 朗姆研究公司 | 发明人 | 埃里克·M·弗里尔;弗雷德·C·雷德克;卡特里娜·米哈利钦科;迈克尔·拉夫金;米哈伊尔·科罗利克 |
| 分类号 | B08B3/00(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 章社杲;吴贵明 |
| 主权项 | 1. 一种用于清洁基片的方法，包括如下方法操作：将活化溶液应用于该基片表面；将固态清洁元件的表面接触该活化溶液和该基片表面；将该活化溶液吸收进该固态清洁元件的一部分；和将该基片或该固态清洁元件的一个相对彼此移动以清洁该基片表面。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||