像素结构与其制造方法

摘要

本发明公开一种像素结构与其制造方法，像素结构的制造方法包括下列步骤。在基板上形成栅极以及与栅极连接的扫描线。于基板上形成绝缘层，并且图案化绝缘层以形成对应于栅极的开口。形成栅极绝缘层以覆盖栅极及扫描线。于栅极绝缘层上形成通道层，且通道层位于开口中。于通道层上形成第一欧姆接触层以及第二欧姆接触层，且第一欧姆接触层以及第二欧姆接触层位于开口中。在第一欧姆接触层以及第二欧姆接触层上形成源极、漏极以及与源极连接的数据线。形成第一电极，其中第一电极与漏极电连接。

主权项

一种像素结构的制造方法，包括：在一基板上形成一栅极以及与该栅极连接的一扫描线；在该基板上形成一绝缘层，并且图案化该绝缘层以形成对应于该栅极的一开口；形成一栅极绝缘层以覆盖该栅极及该扫描线；在栅极绝缘层上形成一通道层，且该通道层位于该开口中；在该通道层上形成一第一欧姆接触层及一第二欧姆接触层，且该第一欧姆接触层及该第二欧姆接触层位于该开口中；在该第一欧姆接触层及该第二欧姆接触层上形成一源极、一漏极以及与该源极连接的一数据线；以及形成一第一电极，该第一电极与该漏极电连接。