发明名称 |
選択的触媒還元時の煙道ガス流のバイパスのための配置及び方法 |
摘要 |
煙道ガスを発生する炉の下流に配置された選択的触媒反応器を含むシステムが本明細書で開示される。選択的触媒反応器は、窒素酸化物を窒素に還元するように動作する。バイパスラインは、選択的触媒反応器と流体連通し、選択的触媒反応器への入口ラインとつながる。バイパスラインは、選択的触媒反応器を迂回する煙道ガスの量を処理するように構成される。第1の制御ダンパは、選択的触媒反応器への入口に配置される。第2の制御ダンパは、バイパスラインへの入口に配置される。第1の制御ダンパと第2の制御ダンパは相互作用して、システムから放出される三酸化硫黄の量を所望の値に低減するのに効果的な比率で、煙道ガス流を選択的触媒反応器とバイパスラインとの間で分割する。【選択図】 図1 |
申请公布号 |
JP2016535232(A) |
申请公布日期 |
2016.11.10 |
申请号 |
JP20160536274 |
申请日期 |
2014.07.30 |
申请人 |
ゼネラル エレクトリック テクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングGeneral Electric Technology GmbH |
发明人 |
コーエン,ミッチェル・ビー;ヘルウェル,トッド・ディ;ダーリング,スコット・エル |
分类号 |
F23J15/00;B01D53/94;F01N3/08;F01N3/20 |
主分类号 |
F23J15/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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