ANODIZED SHOWERHEAD

摘要

본 명세서에 개시된 실시예들은 일반적으로 양극산화처리된 가스 분배 샤워헤드를 가진 장치에 관한 것이다. 대면적 평행판 RF 처리 챔버에서, RF 회귀 경로를 마스터하는 것은 힘들 수 있다. 아킹은 RF 처리 챔버에서 자주 만나는 문제이다. RF 처리 챔버에서의 아킹을 저감시키기 위해, RF 회귀 경로를 줄이도록 스트랩이 서셉터에 접속될 수 있고, 세라믹 또는 절연성 또는 양극산화처리된 셰도우 프레임이 처리 과정중에 서셉터에 접속될 수 있으며, 양극산화처리된 코팅이 챔버 벽체와 가장 근접한 고온 샤워헤드의 에지에 증착될 수 있다. 상기 양극산화처리된 코팅은 샤워헤드와 챔버 벽체 간의 아킹을 줄일 수 있으며, 그에 따라 박막 특성을 향상시키고 증착속도를 증대시킨다.