发明名称 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CURED ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING ACTINICALLY CURED ARTICLE
摘要 본 발명은 하기 (1) ∼ (3) 을 함유하는 감광성 조성물로서, 라디칼 개시제 (A), 산 발생제 (B) 및 염기 발생제 (C) 중 적어도 1 개가 활성 광선의 조사에 의해 활성종 (H) 를 발생하고, 그 활성종 (H) 가 라디칼 개시제 (A), 산 발생제 (B) 또는 염기 발생제 (C) 와 반응하여 새로운 활성종 (I) 를 생성하여 그 새로운 활성종 (I) 에 의한 중합성 물질 (D) 의 중합 반응이 진행되고, 그 활성종 (H) 또는 (I) 가 산 또는 염기이며, 착색제, 금속 산화물 분말 및 금속 분말 모두를 실질적으로 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물. (1) 라디칼 개시제 (A) (2) 산 발생제 (B) 및/또는 염기 발생제 (C) (3) 중합성 물질 (D)
申请公布号 KR101666263(B1) 申请公布日期 2016.10.13
申请号 KR20137025734 申请日期 2012.03.06
申请人 산요가세이고교 가부시키가이샤 发明人 모토후지 시헤이;히구치 신타로;도쿠나가 히로노부;무카이 다카오;오타카 다케시;미즈노 유스케;신도 야스히로;마츠모토 에이지
分类号 G03F7/027;C08F2/44;C08F18/14;C08F20/10;C09D4/00;C09D7/12;G03F7/004;G03F7/029;G03F7/031 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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