METHOD FOR PRODUCING AT LEAST ONE POROUS LAYER

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung mindestens einer porösen Schicht (21, 23; 31) auf einem Substrat (11), bei welchem eine Suspension (1), die Partikel (3) aus einem schichtbildenden Material oder molekulare Vorstufen des schichtbildenden Materials sowie mindestens eine organische Komponente enthält, auf das Substrat (11) aufgetragen wird, anschließend die Vorstufen des schichtbildenden Materials zum schichtbildenden Material nach dem Auftragen auf das Substrat (11) reagieren, in einen nächsten Schritt die Partikel (3) aus dem schichtbildenden Material gesintert werden und abschließend die mindestens eine organische Komponente entfernt wird. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Feldeffekttransistor mit mindestens einer Gateelektrode, wobei die Gateelektrode eine elektrisch leitfähige poröse Beschichtung (21, 23; 31) aufweist, die durch das erfindungsgemäße Verfahren hergestellt wurde.