| 发明名称 | 用于制造薄膜图案的设备以及应用该设备制造薄膜的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于制造薄膜图案的设备以及应用这种设备制造薄膜图案的方法，由于工艺偏差是最小化的，因此可形成可靠的薄膜图案。用于制造薄膜图案的该设备包括：涂覆设备，用于在薄膜形成于其上的基板上涂上蚀刻抗蚀剂溶液；具有凹面和凸面的软模具，对蚀刻抗蚀剂加压以形成具有对应凹面形状的蚀刻抗蚀剂图案；以及硬化设备，用于硬化蚀刻抗蚀剂溶液，其中提供的软模具的凸面在其末端具有狭窄区域。 | ||
| 申请公布号 | CN101221357A | 申请公布日期 | 2008.07.16 |
| 申请号 | CN200710196558.1 | 申请日期 | 2007.11.29 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 金珍郁;南妍熙 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L27/12(2006.01);H01L21/84(2006.01);G02F1/1362(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1.一种用于制造薄膜图案的设备，所述设备包括：涂覆设备，用于在薄膜形成于其上的基板上涂上蚀刻抗蚀剂溶液；具有至少一个凹面和至少一个凸面的软模具，对蚀刻抗蚀剂溶液加压以形成具有对应于所述凹面的形状的蚀刻抗蚀剂图案；以及硬化设备，用于硬化所述蚀刻抗蚀剂溶液；其中提供的所述软模具的所述凸面在所述凸面的末端具有狭窄区域。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||