发明名称 |
等离子体处理方法和等离子体装置 |
摘要 |
本发明可以提高等离子体处理装置的处理结果的预测等的精度,并可减轻作成模型时的负担。将作为基准的运转条件A、B的测量数据Xa、Xb存储在测量数据存储部分(202)中,将通过多变量分析作成的模型Ka、Kb存储在分析处理结果存储部分(210)中,将新的运转条件P的测量数据存储在测量数据存储部分202中,利用分析处理部(208),将测量数据Xp作为分别将加权系数Wa、Wb与测量数据Xa和测量数据Xb相乘后相加的加权测量数据,由此,求出的加权系数Wa、Wb。通过分别将加权系数Wa、Wb与模型Ka和模型Kb相乘再相加,求根据新的运转条件P的模型Kp。 |
申请公布号 |
CN1641841A |
申请公布日期 |
2005.07.20 |
申请号 |
CN200510000398.X |
申请日期 |
2005.01.10 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
友安昌幸 |
分类号 |
H01L21/3065;H01L21/205;H01L21/00;C23C16/50;C23F4/00;H05H1/46 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1.一种等离子体处理方法,在设定处理装置的运转条件,在所述处理装置具有的气密的处理容器内产生等离子体,对被处理体进行等离子体处理时,根据设在所述处理装置中的测量器测量的测量数据,进行多变量分析,作成模型,再根据该模型监视与等离子体处理有关的信息,或对应于与基于该模型的等离子体处理有关的信息的变化,改变等离子体处理的运转条件,其特征为,它具有下列工序:当设定第一运转条件进行等离子体处理时,通过所述测量器取得第一测量数据的工序;根据所述第一测量数据,通过多变量分析作成第一模型的工序;当设定第二运转条件进行等离子体处理时,通过所述测量器取得第二测量数据的工序;根据所述第二测量数据,通过多变量分析,作成第二模型的工序;当设定第三运转条件进行等离子体处理时,通过所述测量器取得第三测量数据的工序;将所述第三测量数据作为分别将加权系数与所述第一测量数据和所述第二测量数据相乘后再将它们进行相加的加权测量数据,由此求所述加权系数的工序;和通过分别将所述加权系数与所述第一模型和所述第二模型相乘,再将它们相加,求基于第三运转条件的第三模型的工序。 |
地址 |
日本东京都 |