| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Regeln einer Lichtquelle eines Fotolithographie-Belichtungssystems, die mehrere LEDs aufweist, mittels der folgenden Schritte: die Lichtleistung der einzelnen LEDs in einem bestimmten Wellenlängenbereich wird erfasst, und die erfasste Lichtleistung wird mit einer Soll-Lichtleistungsverteilung über das gesamte Spektrum verglichen. Die LEDs werden so betrieben, dass die spektrale Soll-Lichtleistungsverteilung möglichst präzise erreicht wird. Die Erfindung betrifft auch eine Belichtungsbaugruppe für ein Fotolithographiegerät, mit einer Lichtquelle, die mehrere LEDs aufweist, einer Steuerung, die die den einzelnen LEDs zugeführte elektrische Leistung steuert, und einem Sensor, der die Lichtleistung der LEDs aufgeschlüsselt nach unterschiedlichen Wellenlängenbereichen erfassen kann. |
