气体注射装置

摘要

本发明公开了一种气体注射装置，用于向反应腔室供工艺气体，包括喷嘴，喷嘴设于反应腔室的介质窗体上，喷嘴包括内管和外管，外管与内管套接在一起，外管固定于介质窗体上，内管可在外管内旋转，内管的底壁上设有底部内气体出口，侧壁上设有侧部内气体出口；外管的底壁上设有底部外气体出口，侧壁上设有侧部外气体出口；通过调节内管在外管内的不同角度，改变底部内气体出口与底部外气体出口的重合度，及侧部内气体出口与侧部外气体出口的重合度，实现单路供气、双区进气，并可调节双区进气流量比例。结构简单、成本低，尤其适用于半导体硅片加工设备的供气系统中，也适用于其它场合的供气。

主权项

1.一种气体注射装置，用于向反应腔室供工艺气体，包括喷嘴，喷嘴设于反应腔室的介质窗体上，其特征在于，所述的喷嘴上设有气体通道，还包括芯部和外管，所述芯部上设有内气体出口，所述外管上设有外气体出口；工艺气体依次通过气体通道、内气体出口、外气体出口而到达反应腔室；所述芯部与外管活动连接，调整芯部与外管的相对位置可调节工艺气体进入反应腔室的流量及方向。