发明名称 |
发光元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明在发光元件等的表面上形成纳米尺寸大小的凸凹结构,由此改善了发光效率特性。本发明发光元件表面的凸凹结构具有如下所示的形状,由整体形成的折射率呈平滑的变化。即(1)凸凹结构的平均直径比光波长小。(2)凸凹间距呈不规则变化。(3)由于折射率是平滑倾斜的,凸凹结构的高度和底面位置具有光波长以下平均值的大小。由此,可以使发光元件等实现较高的发光效率特性。这种发光元件表面是通过以下方式形成的:采用一种树脂组合物在发光元件表面上形成薄膜,该树脂组合物含有嵌段共聚物或者接枝共聚物并且通过自组织形成微相分离结构,然后将在表面上形成的该薄膜的微相分离结构中的至少一个相选择性地除去,采用该剩余相作为腐蚀掩模对该发光元件的表面进行腐蚀。 |
申请公布号 |
CN100403555C |
申请公布日期 |
2008.07.16 |
申请号 |
CN02160828.8 |
申请日期 |
2002.12.27 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
浅川钢儿;藤本明;杉山仁;大桥健一;铃木启之;户野谷纯一 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈昕 |
主权项 |
1.一种发光元件的制造方法,其特征在于:采用一种树脂组合物在具有发光层的发光元件的光引出面形成薄膜,该树脂组合物含有嵌段共聚物或者接枝共聚物,并且通过自组织形成微相分离结构;然后将在表面上形成的该薄膜的微相分离结构中的至少一个相选择性地除去,采用剩余的相作为腐蚀掩模对所述光引出面进行腐蚀;所述嵌段共聚物或者接枝共聚物的数均分子量在10万以上1000万以下,并且所述树脂组合物中,向所述嵌段共聚物或者接枝共聚物中添加了低分子量的均聚物。 |
地址 |
日本东京都 |