用于静态反应溅射的工艺气体分段

摘要

描述一种用于材料在基板上的静态沉积的设备。所述设备包括：气体分布系统，所述气体分布系统用于提供一或多种工艺气体，其中所述气体分布系统被配置成用于针对沿基板传送方向的两个或更多个位置独立控制所述一或多种工艺气体中的至少一种工艺气体的流率；以及阴极阵列，所述阴极阵列具有三个或更多个阴极，所述三个或更多个阴极沿所述基板传送方向间隔开。

主权项

一种用于材料在基板上的静态沉积的设备，所述设备包括：阴极阵列，所述阴极阵列具有三个或更多个阴极，所述三个或更多个阴极沿基板传送方向间隔开；以及气体分布系统，所述气体分布系统用于提供一或多种工艺气体，其中所述气体分布系统被配置成用于针对沿所述基板传送方向的两个或更多个位置独立控制所述一或多种工艺气体中的至少一种工艺气体的流率。