发明名称 一种相对介电系数可调氮化铝涂层的制备方法
摘要 一种相对介电系数可调氮化铝涂层的制备方法,涉及铜‑碳合金表面处理。包括以下步骤:(1)在铜‑碳合金表面用脉冲直流溅射沉积Cr过渡层;(2)用中频电源共溅射双生阴极Al及BN靶,制备AlN‑BN纳米复合结构涂层;(3)交替反应溅射沉积AlN及BN单层膜,完成铜‑碳合金基体表面制备相对介电系数可调AlN涂层。制备的相对介电系数可调氮化铝涂层具有相对介电系数可调、低介电损耗、高绝缘、高导热且膜‑基结合良好等性能。
申请公布号 CN105803407A 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201610399691.6 申请日期 2016.06.07
申请人 厦门大学 发明人 王周成;吴正涛;张东方;魏斌斌
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人 马应森
主权项 一种相对介电系数可调氮化铝涂层的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)在铜‑碳合金表面用脉冲直流溅射沉积Cr过渡层;(2)用中频电源共溅射双生阴极Al及BN靶,制备AlN‑BN纳米复合结构涂层;(3)交替反应溅射沉积AlN及BN单层膜,完成铜‑碳合金基体表面制备相对介电系数可调AlN涂层。
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