发明名称 |
一种大垄平台栽培绿豆的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种大垄平台栽培绿豆的方法,属于绿豆栽培技术领域。秋整地起垄,在所述垄两侧设垄沟,所述垄设垄台,分别对垄沟和垄台中间部位进行深松,以起垄前的土地表面为基准,所述垄沟的深松深度为30~40cm,垄台中间的深松深度为15~30cm;整地时,将基肥施于垄台中间;将种肥施于播种位置下方;在垄台上进行绿豆的播种,所述播种共3行,形成3条苗带,所述播种的行间距为25~30cm,所述绿豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产绿豆品种;将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧,所述追肥施于垄台下方。本发明结合深松、播种和施肥的栽培方法,通透性好、抗逆性强,改善了绿豆群体光合作用生产效率和肥料利用率,可实现绿豆丰产优质高效生产。 |
申请公布号 |
CN106105724A |
申请公布日期 |
2016.11.16 |
申请号 |
CN201610565573.8 |
申请日期 |
2016.07.18 |
申请人 |
黑龙江八一农垦大学 |
发明人 |
张翼飞;于崧;杨克军;王玉凤;薛盈文;郭伟;于立河 |
分类号 |
A01G1/00(2006.01)I |
主分类号 |
A01G1/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京高沃律师事务所 11569 |
代理人 |
李娜 |
主权项 |
一种大垄平台栽培绿豆的方法,包括以下步骤:秋整地起垄,在所述垄两侧设垄沟,所述垄设垄台,分别对垄沟和垄台中间部位进行深松,以起垄前的土地表面为基准,所述垄沟的深松深度为30~40cm,垄台中间的深松深度为15~30cm;整地时,将基肥施于垄台中间;将种肥施于播种位置下方;在垄台上对绿豆进行播种,所述播种共3行,形成3条苗带,所述播种的行间距为25~30cm,所述绿豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产绿豆品种;将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧,所述追肥施于垄台下方。 |
地址 |
163000 黑龙江省大庆市高新区新风路5号 |