| 发明名称 |
Method of determining aberration of a projection system of a lithographic apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1580605(B1) |
申请公布日期 |
2007.05.02 |
| 申请号 |
EP20050251792 |
申请日期 |
2005.03.23 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
BASELMANS, JOHANNES J.M.;KOK, HAICO VICTOR |
| 分类号 |
G01M11/02;G03F7/20;G02B13/24;H01L21/027 |
主分类号 |
G01M11/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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