METHOD FOR IN-SITU ABERRATION MEASUREMENT OF OPTICAL IMAGING SYSTEM IN LITHOGRAPHIC TOOLS,申请号EP20060828451-传众专利搜索

发明名称	METHOD FOR IN-SITU ABERRATION MEASUREMENT OF OPTICAL IMAGING SYSTEM IN LITHOGRAPHIC TOOLS
摘要
申请公布号	EP2002307(A4)	申请公布日期	2010.01.27
申请号	EP20060828451	申请日期	2006.12.25
申请人	SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.	发明人	WANG, FAN;MA, MINGYING;WANG, XIANGZHAO
分类号	G03F7/20;G01N11/02;H01L21/027	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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