发明名称 トランジスタの製造方法
摘要 本発明の目的は、ドレイン・ソース電極間を流れる電流の低下を抑制しつつ、ゲート絶縁膜の絶縁破壊電圧が高いトランジスタを提供することである。トランジスタ100は、半導体層2と、半導体層2上に形成されたゲート絶縁膜7と、ゲート絶縁膜7上に形成されたゲート電極8と、半導体層2上にゲート電極8を挟んで形成されたソース電極5およびドレイン電極6を備え、ゲート絶縁膜7に含まれる不純物の濃度が、ゲート絶縁膜7の半導体層2側の表面からゲート絶縁膜7のゲート電極8側の表面にかけて減少していることを特徴とする。
申请公布号 JPWO2014010405(A1) 申请公布日期 2016.06.23
申请号 JP20140524720 申请日期 2013.06.25
申请人 株式会社村田製作所 发明人 荒木 聖人;橋本 正太郎;高尾 将和
分类号 H01L21/336;H01L21/316;H01L29/78;H01L29/80 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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