| 发明名称 | 曝光装置、曝光方法及组件制造方法 | ||
| 摘要 | 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。 | ||
| 申请公布号 | CN101002299A | 申请公布日期 | 2007.07.18 |
| 申请号 | CN200580023601.3 | 申请日期 | 2005.08.01 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 大和壮一;长坂博之;菅原龙 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，透过液浸区域的液体将基板曝光，其特征在于具备：投影光学系统，具有最靠近该投影光学系统的像面的第1光学元件；液浸机构，在设置于该投影光学系统的像面侧的既定面与该第1光学元件之间形成液体的液浸区域；及观察装置，用以观察该液浸区域的状态。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||