| 发明名称 | 气体分离装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种气体分离装置，用于向反应腔室供工艺气体，设于反应腔室的介质窗体上，包括上盖、下盖，上盖与下盖构成封闭空间，上盖上设有进气口，下盖上设有多个出气口。可以采用上、下盖分体的形式，也可以采用一体的形式；可以单独设置，也可以用介质窗体作为上盖，或将介质窗体内部掏空做成气体分离装置。结构简单、气体分布均匀性好，尤其适用于半导体硅片加工设备的供气系统中，也适用于其它场合的供气。 | ||
| 申请公布号 | CN101144163A | 申请公布日期 | 2008.03.19 |
| 申请号 | CN200610113103.4 | 申请日期 | 2006.09.14 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 林盛 |
| 分类号 | C23F1/12(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | C23F1/12(2006.01) |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵镇勇;王连军 |
| 主权项 | 1.一种气体分离装置，用于向反应腔室供工艺气体，设于反应腔室的介质窗体上，其特征在于，所述的气体分离装置包括上盖、下盖，所述的上盖与下盖构成封闭空间，上盖上设有进气口，下盖上设有多个出气口。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||