发明名称 |
接触发光元件、其制造方法以及指纹识别装置 |
摘要 |
本发明涉及能够薄型化、增加光构图的辉度,从而改善指纹图像的质量的接触发光元件与其制造方法及使用该接触发光元件的指纹识别装置。本发明的接触发光元件包括:透明绝缘层(11),形成于透明绝缘层上的透明电极层(12),形成于透明电极层上的发光层(13),形成于发光层上的浸透调节层(14),形成于浸透调节层上的遮光层(15),形成于所述遮光层上的第一保护层(16),和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层(17)。 |
申请公布号 |
CN101656299A |
申请公布日期 |
2010.02.24 |
申请号 |
CN200810214013.3 |
申请日期 |
2008.08.22 |
申请人 |
Testech株式会社 |
发明人 |
蔡尚勋 |
分类号 |
H01L51/50(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;G06K9/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
余 朦;王艳春 |
主权项 |
1.接触发光元件,其特征在于包括:透明绝缘层;透明电极层,形成于所述透明绝缘层上,连接交流电源,接受交流供电;发光层,形成于所述透明电极层上,在与物体接触后,通过供给透明电极层的交流电流过物体而产生的电场而发光,产生基于发光物体的接触面构图的光构图,通过所述透明电极层,照射所述透明绝缘层;浸透调节层,形成于所述发光层上,调节黑色颜料向所述发光层的浸透,防止外部光渗透所述发光层;遮光层,形成于所述浸透调节层上,防止外部光透过所述浸透调节层;第一保护层,形成于所述遮光层上,防止水分浸透所述遮光层,提供粘结力;和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层。 |
地址 |
韩国京畿道 |