| 发明名称 | 一种研磨液、制备研磨液的方法和化学机械研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种研磨液，包括(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>颗粒和溶剂，所述(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>颗粒的含量为所述研磨液总重的5重量％至35重量％。本发明还提供了制备研磨液的方法，包括：制备(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>颗粒的步骤；和将所述(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>颗粒与溶剂混合而制备(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>溶液的步骤。本发明还提供了使用本发明的研磨液进行化学机械研磨的方法。本发明的研磨液因含有单分散性的磁性(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>颗粒，与传统的研磨液相比，在磁场中的黏度急剧增加，从而有效地减少了在存储或运输的过程中产生的沉淀，确保了CMP工艺的稳定性，减少了晶圆的刮痕问题或粗糙缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN105838325A | 申请公布日期 | 2016.08.10 |
| 申请号 | CN201510021240.4 | 申请日期 | 2015.01.15 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 王芬;王立众;杨志强;谭玉荣 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人 | 董巍;高伟 |
| 主权项 | 一种研磨液，包括(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>颗粒和溶剂，所述(Fe<sub>3</sub>N)SiO<sub>2</sub>颗粒的含量为所述研磨液总重的5重量％至35重量％。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||