| 发明名称 |
基板及びフォトポリマー膜を含む複合体 |
| 摘要 |
本発明は、少なくともいくつかの部分で互いに着脱可能に結合された基板とフォトポリマー膜とを含む複合体に関し、基板はポリエチレンテレフタレートを含み、フォトポリマーは三次元架橋ポリウレタンマトリックスポリマー、書き込みモノマー及び光開始剤を含み、基板が、式（Ｉ）の染料の０．５体積パーセント酢酸ブチル溶液中、２３℃で７日のインキュベーション後にＬ１のＬ値及びインキュベーション前にＬ０のＬ値を有し、Ｌ値のＬ１とＬ０との差が式（ＩＩ）：Ｌ１−Ｌ０＜０．２５（式ＩＩ）を満たし、Ｌ値は、ＣｉｅＬＡＢ測定によって求められることを特徴とする。【化１】【選択図】なし |
| 申请公布号 |
JP2016539023(A) |
申请公布日期 |
2016.12.15 |
| 申请号 |
JP20160526777 |
申请日期 |
2014.10.28 |
| 申请人 |
コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣＯＶＥＳＴＲＯ ＤＥＵＴＳＣＨＬＡＮＤ ＡＧ |
发明人 |
ヴアイザー，マルク−シユテフアン;ベルネツ，ホルスト;ブルダー，フリードリツヒ−カール;レール，トーマス;ヘネル，デニス;フエツケ，トーマス |
| 分类号 |
B32B27/36;C08F2/50;C08K5/42;C08L67/02;G03H1/02;G11B7/244 |
主分类号 |
B32B27/36 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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