发明名称 Process chamber included in substrate disposition apparatus
摘要 공정챔버의 일 실시예는, 상부판; 적어도 하나의 기판을 지지하고, 승하강이 가능하도록 구비되는 기판안착부; 상기 기판안착부를 수용하고, 상기 상부판에 의해 폐쇄되는 수용부; 상기 상부판에 장착되고, 공정가스를 상기 수용부에 공급하는 가스공급부; 및 상기 상부판의 하측에 배치되고, 상기 가스공급부의 일부분이 삽입되는 단열재를 포함할 수 있다.
申请公布号 KR101677661(B1) 申请公布日期 2016.11.21
申请号 KR20150022181 申请日期 2015.02.13
申请人 주성엔지니어링(주) 发明人 피중호;구분회;박광수
分类号 H01L21/02;H01L21/324;H01L21/677 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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