摘要 |
La presente se refiere a compuestos de la fórmula general (1) en la que R1 es alquilo inferior, -(CH2)n-arilo sin sustituir o sustituido por uno o dos sustituyentes, elegidos entre alquilo inferior, alcoxi inferior, -OCF3, halógeno,-NR´R" o trifluormetilo, o es heteroarilo; R2 es alquilo inferior, -(CH2)n-arilo, sin sustituir o sustituido por uno o dos sustituyentes elegidos entre alquilo inferior, alcoxi inferior, halógeno, trifluormetilo, nitro, ciano, -NR´R" e hidroxi, o por un grupo heteroarilo, o es heteroarilo, sin sustituir o sustituido por uno o dos sustituyentes elegidos entre alquilo inferior y halógeno; R3 es heteroarilo o es arilo sin sustituir o sustituido por halógeno o alquilo inferior; R4 es H o hidroxi; A es -S(O)2- o -C(O)-; X, Y con independencia entre sí son -CH2- o -O-, con la condición de que X e Y no sean simultáneamente -O-; R´R" con independencia entre sí son H, alquilo inferior o -C(O)-alquilo inferior; n es 0, 1 o 2; y a sales de adición de ácido farmacéuticamente aceptables de los mismos. Estos compuestos pueden utilizarse para el tratamiento de psicosis, dolor, disfunciones de la memoria y del aprendizaje, esquizofrenia, demencia y otras enfermedades en las que los procesos cognitivos están desequilibrados, por ejemplo los trastornos por déficit de atención o la enfermedad de Alzheimer. Se describen procesos de obtención de los compuestos.
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